皮拉尼真空計的測量精度受氣壓(壓強)影響顯著,且這種影響是原理性的 —— 其精度隨壓強區間變化呈現明確規律:在有效測量范圍的中值區間精度zui高,靠近量程上下邊緣時精度會明顯下降。以下從原理機制、精度變化規律、工業場景影響及優化方案展開深度解析:
皮拉尼真空計的測量邏輯是 “通過氣體熱傳導效率反推壓強",而熱傳導與氣壓的相關性在不同壓強區間存在本質差異,直接導致精度波動:
有效測量范圍的中值區間(如 10?3~10?1 Pa):
此時氣體分子熱傳導是燈絲散熱的主導方式,且熱傳導效率與氣壓近似線性相關(分子密度適中,碰撞燈絲的頻率與氣壓成正比)。校準曲線的線性度好,測量誤差最小,是精度zui高的區間。
靠近量程下限(<10?? Pa,低真空邊緣):
氣壓過低導致氣體分子密度極低,分子熱傳導作用可忽略,燈絲散熱主要依賴輻射散熱 + 固體熱傳導(兩者均與氣壓無關)。此時氣壓變化無法通過散熱效率體現,真空計難以區分氣壓差異,測量誤差急劇增大(可能從 ±1%~±2% FS 飆升至 ±10%~±50% FS)。
靠近量程上限(>10?1 Pa,接近常壓或中真空上限):
氣壓過高時氣體分子密度大,分子熱傳導進入 “飽和區"—— 熱傳導效率不再隨氣壓升高而線性增長(分子碰撞過于密集,熱量傳遞達到極限)。校準曲線的線性度變差,同時氣流擾動(氣壓高時氣體流動性增強)會干擾熱平衡,導致精度下降(誤差通常從 ±2%~±3% FS 增至 ±5%~±10% FS)。
超量程區間(<10?? Pa 或>大氣壓):
wan全脫離有效測量范圍,分子熱傳導機制失效(低壓端)或熱傳導飽和 + 氣流干擾(高壓端),測量值基本失真,無精度可言。
不同品牌型號的精度 - 氣壓曲線雖有差異,但整體趨勢一致,以下以工業常用的日本型號為例,量化展示變化規律:
精度標注的 “典型值"(如 ±1% FS、±2.5% FS)均對應中值區間,而非全量程;
氣壓偏離中值區間越遠,精度下降越明顯,低氣壓端的誤差增長速率高于高氣壓端;
寬量程型號(如 HORIBA PG-300)通過優化電路和探頭設計,可拓寬高精度區間,但仍無法避免邊緣量程的精度衰減。
半導體鍍膜場景(工作氣壓 10?3~10?2 Pa):
恰好處于 ULVAC GP-200 的中值高精度區,精度可達 ±1% FS,能穩定控制膜層均勻性;若工藝氣壓因設備故障降至 10?? Pa(超下限),真空計顯示誤差達 ±20%,會導致鍍膜厚度偏差過大,產品報廢。
真空干燥箱場景(工作氣壓 10?2~10?1 Pa):
靠近 TOKYO KEISO TM-201 的中值區間上限,精度約 ±5%~±6% FS,足以滿足干燥工藝的真空度監測需求(無需ji高精度);若需將氣壓提升至 1 Pa(超量程上限),誤差會增至 ±10% 以上,無法準確判斷干燥效果。
寬量程真空系統(工作氣壓 10?~10? Pa,如常壓抽真空流程):
HORIBA PG-300 的中值高精度區覆蓋該范圍,精度 ±1.5% FS,可滿足全流程連續測量;若氣壓降至 10?? Pa(下限),誤差升至 ±15%,需切換至電離真空計配合使用。
精準匹配量程,優先使用中值區間:
超量程場景采用組合測量:
針對性校準,優化局部區間精度:
選擇寬量程高精度型號: